美(Mei)国(Guo)发(Fa)明(Ming)专(Zhuan)利(Li)(Utility Patent)

申(Shen)请(Qing)功(Gong)能(Neng)专(Zhuan)利(Li)的(De)发(Fa)明(Ming)创(Chuang)作(Zuo)必(Bi)须(Xu)具(Ju)有(You)某(Mou)些(Xie)功(Gong)能(Neng)或(Huo)实(Shi)用(Yong)价(Jia)值(Zhi)，(?)可(Ke)申(Shen)请(Qing)的(De)发(Fa)明(Ming)包(Bao)括(Kuo)：(?)程(Cheng)序(Xu)（(?)Process）(?)、(?)机(Ji)械(Xie)（(?)Machine）(?)、(?)产(Chan)品(Pin)（(?)Article of Manufacture）(?)、(?)组(Zu)成(Cheng)（(?)Composition of Matter）(?)。(?)其(Qi)中(Zhong)，(?)程(Cheng)序(Xu)可(Ke)为(Wei)方(Fang)法(Fa)（(?)Method）(?)或(Huo)上(Shang)述(Shu)发(Fa)明(Ming)的(De)新(Xin)使(Shi)用(Yong)方(Fang)法(Fa)（(?)New Use）(?)。(?)发(Fa)明(Ming)专(Zhuan)利(Li)保(Bao)护(Hu)年(Nian)限(Xian)为(Wei)申(Shen)请(Qing)日(Ri)起(Qi)二(?) 十(Shi)年(Nian)、(?)分(Fen)别(Bie)为(Wei)注(Zhu)册(Ce)日(Ri)起(Qi)第(Di)三(San)年(Nian)半(Ban)、(?)七(Qi)年(Nian)半(Ban)及(Ji)十(Shi)一(Yi)年(Nian)半(Ban)。(?)需(Xu)缴(Jiao)纳(Na)维(Wei)持(Chi)费(Fei)，(?)共(Gong)缴(Jiao)纳(Na)三(San)次(Ci)。(?)需(Xu)要(Yao)直(Zhi)接(Jie) 进(Jin)行(Xing)审(Shen)查(Cha)，(?)核(He)准(Zhun)后(Hou)获(Huo)颁(Ban)注(Zhu)册(Ce)证(Zheng)书(Shu)并(Bing)同(Tong)时(Shi)公(Gong)告(Gao)。(?)

美(Mei)国(Guo)外(Wai)观(Guan)设(She)计(Ji)专(Zhuan)利(Li)(Design Patent) 

必(Bi)须(Xu)为(Wei)外(Wai)观(Guan)上(Shang)的(De)设(She)计(Ji)才(Cai)可(Ke)以(Yi)申(Shen)请(Qing)外(Wai)观(Guan)设(She)计(Ji)专(Zhuan)利(Li)。(?)保(Bao)护(Hu)期(Qi)自(Zi)申(Shen)请(Qing)日(Ri)起(Qi)14年(Nian)，(?)无(Wu)需(Xu)交(Jiao)纳(Na)维(Wei)持(Chi)年(Nian)费(Fei)。(?)